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工業(yè)烤箱控溫與均勻性保障

控溫范圍廣：常規(guī)工業(yè)烤箱溫度范圍為室溫～300℃，高溫型可達(dá) 500℃以上（如陶瓷燒結(jié)用烤箱），滿足不同材料的熱處理需求。

曝光機(jī)從特殊場(chǎng)景適配需求需要考慮哪些因素

汞燈機(jī)型需配備 UV 防護(hù)罩（紫外線泄漏≤1μW/cm2）； 溶劑型光刻膠曝光時(shí)需加裝廢氣處理裝置（VOCs 去除率≥90%）。

曝光機(jī)從供應(yīng)商與服務(wù)能力需要考慮哪些因素

優(yōu)先選擇在目標(biāo)領(lǐng)域有成熟案例的供應(yīng)商： PCB 行業(yè)：考察是否供應(yīng)過(guò)深南電路、滬電股份等企業(yè)； 半導(dǎo)體行業(yè)：需具備 SEMI 標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證，且有晶圓廠供貨經(jīng)驗(yàn)。

曝光設(shè)備結(jié)構(gòu)與自動(dòng)化配置

接觸式曝光：掩膜版與基板直接貼合，分辨率高但掩膜版易損耗，適合小批量打樣。 非接觸式曝光：接近式（間隙 5-50μm）：減少掩膜磨損，適合中大批量生產(chǎn)； 投影式（如掃描曝光）：無(wú)接觸損耗，適合高精度連續(xù)生產(chǎn)（如 FPC 卷對(duì)卷工藝）。

曝光機(jī)從核心技術(shù)參數(shù)與工藝匹配需要考慮哪些因素

汞燈曝光機(jī)：光譜覆蓋 300-450nm，光強(qiáng)高（≥100mW/cm2），適合厚膜光刻（如 PCB 阻焊層），但能耗高（單機(jī)功率 1-3kW）、壽命短（800-1500 小時(shí)）。 UV-LED 曝光機(jī)：?jiǎn)紊猓ㄈ?365nm/395nm），能耗低（省電 30%-50%）、壽命長(zhǎng)（20000 小時(shí)），適合高精度薄膜光刻（如半導(dǎo)體掩膜版），但光強(qiáng)均勻性要求更高。

UV固化機(jī)從廠商與售后支持需要考慮哪些因素

要求廠家用實(shí)際材料進(jìn)行固化測(cè)試，驗(yàn)證： 固化后硬度（邵氏硬度計(jì)）、附著力（百格測(cè)試）； 外觀效果（是否發(fā)黃、開裂）；