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曝光機(jī)從核心技術(shù)參數(shù)與工藝匹配需要考慮哪些因素

發(fā)布時(shí)間:2025-06-26 20:26:14 人氣:

1. 曝光類型與光源配置
按光源分類:
汞燈曝光機(jī):光譜覆蓋 300-450nm,光強(qiáng)高(≥100mW/cm2),適合厚膜光刻(如 PCB 阻焊層),但能耗高(單機(jī)功率 1-3kW)、壽命短(800-1500 小時(shí))。
UV-LED 曝光機(jī):單色光(如 365nm/395nm),能耗低(省電 30%-50%)、壽命長(20000 小時(shí)),適合高精度薄膜光刻(如半導(dǎo)體掩膜版),但光強(qiáng)均勻性要求更高。
關(guān)鍵指標(biāo):
波長需與光刻膠匹配(如正性膠常用 365nm,負(fù)性膠可用 405nm);
光強(qiáng)均勻性≤±3%(通過勻光板或多 LED 陣列實(shí)現(xiàn))。
2. 分辨率與精度
分辨率決定圖案細(xì)節(jié):
PCB 線路板:線寬 / 線距≥50μm 時(shí),選用分辨率 1-2μm 的設(shè)備;
半導(dǎo)體芯片:需 0.5μm 以下分辨率,需搭配投影式曝光(如步進(jìn)光刻機(jī))。
定位精度:
重復(fù)定位精度≤±10μm(適用于多層板對(duì)位),半導(dǎo)體領(lǐng)域需≤±1μm(需激光干涉儀校準(zhǔn))。
3. 曝光幅面與產(chǎn)能
幅面適配性:
標(biāo)準(zhǔn) PCB 板:選擇 600×900mm 以上幅面(兼容 FR-4 板材);
柔性屏基板:需 1000×1500mm 超大幅面(如 OLED 蒸鍍前曝光)。
產(chǎn)能計(jì)算:

單次曝光時(shí)間 + 上下料時(shí)間 = 節(jié)拍周期,例:某設(shè)備單次曝光 15s,每小時(shí)產(chǎn)能≈240 片(按全自動(dòng)線計(jì)算)。

東莞市正凱機(jī)電設(shè)備有限公司主要從事TP、LCD、FPC、PCB等行業(yè)設(shè)備的專業(yè)生產(chǎn)廠家。公司擁有一批專業(yè)的工程師及技術(shù)骨干,有20多年的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制作設(shè)備的專業(yè)經(jīng)驗(yàn),為給客戶提供優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)并拓展業(yè)務(wù),我公司還在江蘇、福建均設(shè)有分公司。公司秉承“科技創(chuàng)新、誠信為本”的經(jīng)營理念,以客戶為中心,為客戶服務(wù)為宗旨,全力以赴、快速反應(yīng),持續(xù)改善讓客戶滿意,與合作伙伴們共同發(fā)展壯大。有需要的客戶可以直接聯(lián)系我們。

平行曝光機(jī)

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