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黃光制程/雙工位曝光機
發(fā)布時間:2021-10-07 08:40:55 人氣:
平行光源單面雙工位曝光機專門用于FILM黃光制程而設計制作的專用設備,系統采用進口平行光源、雙工位抽屜進出曝光平臺交替工作進行FILM濕膜、干膜曝光。
設備特點
1.雙工位曝光機雙工位平臺真空吸附將FILM與MASK貼緊,曝光解析度20UM。
2.采用進口曲面MIRROR反射光學系統,曝光均勻度: > 90%
3.燈源: UV能量積分器進行曝光能量設置和控制主動風冷式降溫保護(有緊急停止保護)
4.智慧型人機界面及曝光能量控制(能量模式及時間模式)
5.雙工位曝光機平臺真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時可不用)
設備型號:ZKUE-M552