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一、設(shè)備概述
平行光曝光機(jī)專門用于FILM黃光制程而設(shè)計(jì)制作的專用設(shè)備，系統(tǒng)采用

進(jìn)口平行光源、雙工位抽屜進(jìn)出曝光平臺(tái)交替工作進(jìn)行FILM濕膜、干膜

曝光。雙工位平臺(tái)真空吸附將FILM與MASK貼緊，曝光解析度20UM。

二、設(shè)備規(guī)格以及主要技術(shù)指標(biāo)
◆產(chǎn)品規(guī)格:曝光面積400MM x 500MM
曝光平臺(tái)面積> 500MM x 600MM
◆電源: AC380V 3f 50HZ 7KVA
◆機(jī)臺(tái)外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM
◆曝光方式:單面曝光玻璃VS玻璃x 2組，采用電磁鎖控制
◆曝光燈管: 5KW x 1PCS(平行光曝光燈)曝光光強(qiáng)> 20MW/Cm，

燈管保用800H
◆光學(xué)系統(tǒng):采用進(jìn)口曲面MIRROR反射光學(xué)系統(tǒng)
◆曝光均勻度: > 90
◆冷 卻系統(tǒng):燈管:外部冰水冷 卻內(nèi)循環(huán)水.臺(tái)面:強(qiáng)制氣冷式
◆曝光控制:智慧型人機(jī)界面及曝光能 量控制(能 量模式及時(shí)間模式)
◆真空系統(tǒng): 400MMHG以上
◆燈源: UV能 量積分器進(jìn)行曝光能 量設(shè)置和控制主動(dòng)風(fēng)冷式降溫保護(hù)(有緊急停止保護(hù))
◆平行光曝光機(jī)空壓系統(tǒng): 4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN
◆平行半角: DA<2。
◆曝光精度:線路寬30UM，線間距30UM
◆曝光能 量設(shè)置: 365NM
◆點(diǎn)燈計(jì)時(shí):配置時(shí)間計(jì)時(shí)器，可清零
◆平臺(tái)平面精度: 0.02MM內(nèi)
◆平臺(tái)真空:平臺(tái)真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時(shí)可不用）
◆平臺(tái)進(jìn)出曝光區(qū):上下框架交替進(jìn)出
◆機(jī)內(nèi)環(huán)境: CL ASS100內(nèi)檢測(cè)系統(tǒng):程序及傳感器檢測(cè)動(dòng)作到位狀況
◆平行光曝光機(jī)燈管保護(hù):燈室過熱檢知及門打開時(shí)UV燈強(qiáng)制熄滅